2015年岩土工程师考试《专业知识》预习资料(18)

　　基坑工程防渗处理

　　当基坑处于地下水位以下，进行基坑开挖时，由于地下水位高于基坑底面，因此会出现地下水流入坑内，使土方开挖及地下室施工困难，同时坑外地下水位会下降，如进行坑内降水和排水，更会降低坑外地下水位，导致坑外地面不均匀下沉，会使周围建筑物、道路、各类地下管线、地下建筑物发生不均匀下沉、变形而导致受损甚至破坏。其次，由于坑内外的水头差，会导致坑外地下水向坑内渗流，在细粒土如粉质黏土、粉土、粉细砂中有可能造成管涌、流沙等现象。因此，当环境条件不允许坑外地下水位下降，为保证边坡稳定、防止出现管涌、流沙时，需要采取地基防渗措施，阻断坑外地下水向坑内的渗流。

#

　　基坑隔水包括侧向隔水帷幕(墙)和封底隔水帷幕。常用的侧向隔水帷幕(墙)有地下连续墙、板桩，或采用搅拌桩、高压喷射注浆法形成搅拌桩或旋喷(定喷、摆喷)桩墙，也可采用冻结法形成隔水墙。当坑底以下不深处存在不透水土层时，应将侧向隔水帷幕(墙)进入不透水层;当不透水层埋藏较深、坑底以下土层渗透性高时，可考虑采用封底隔水帷幕。在软土地区，封底隔水帷幕还可减少挡土桩的变形;基坑深度不大时，搅拌桩、高压喷射注浆法形成搅拌桩或旋喷(定喷、摆喷)桩墙只要具备足够厚度，还可形成重力式挡土墙，兼隔水与挡土功能。 #

　　光的双折射现象 #

　　1)光的双折射现象

#

　　光通过各向异性晶体，出现两束折射光线，这种现象称为双折射现象。其中一束光线遵从折射定律，称为寻常光线，用ο表示，也称ο光;另一束光线不遵从折射定律，称为非常光线，用e表示，也称e光。出现双折射现象的原因是由于ο、e光在晶体中沿各个方向的传播速度不同(因而折射率也不同)。 #

　　2)光轴

　　光沿某一特定方向通过各向异性晶体时，不产生双折射现象，在这个方向，ο、e光的传播速度相同，这个特定的方向就是晶体的光轴。注意，光轴代表一个方向，而不是一条直线。 #

　　3)主截面 #

　　通过光轴并与晶体的任一晶面正交的面称为该晶体的主截面。 #

　　当入射光线在主截面内时，ο、e光均在主截面内，但ο光的振动方向垂直于主截面，e光的振动方向平行于主截面，ο光和e光都是偏振光。 #

　　4)尼科耳棱镜 #

　　利用方解石晶体可制成尼料耳棱镜，用它可使自然光转变为偏振光。所以可以作为起偏器和检偏器使用。

#

　　抹灰工程

　　1、操作工艺 #

　　工艺流程：墙面清理粉尘、污垢→浇水湿润墙面→吊垂直找方抹灰饼冲筋、找规矩→抹底灰→抹面层防水砂浆。

　　1)、基层处理：将墙面上残余砂浆、污垢、灰尘等，清理干净，并用水浇墙，将砖缝中的尘土冲掉，并将墙面湿润。 #

　　2)、吊垂直、套方、找规矩、抹灰饼同上。

#

　　3)、冲筋，抹底层砂浆时，用大横竖刮平，木抹子搓毛，终凝后浇水养护。

　　2、质量验收 #

　　(1)、保证项目：

　　所用的材料品种，质量必须符合设计要求，各抹灰层之间，及抹灰层与基体之间必须粘结牢固、无脱层、空鼓、面层无爆灰和裂缝(风裂除外)等缺陷。

#

　　(2)、允许偏差项目：

#

　　墙面一般抹灰允许偏差 #

　　3、成品保护 #

　　各抹灰层在凝结前应防止快干、曝洒、水冲、撞击和振动，以保证其灰层有足够的强度。

　　4、注意事项 #

　　空鼓、开裂和烂根：由于抹灰前对基层清理不干净或不彻底，抹灰前不浇水，每层灰抹得过厚，跟得太紧;对于预制混凝土光滑表面不认真进行“毛化处理”;甚至混凝土表面的酥皮不处理就抹灰;抹灰后不养护。为解决好空鼓、开裂等质量问题，应从三方面下手解决，第一施工前的浇水、清理;第二施工操作分层分遍压实认真不马虎;第三施工后及时浇水养护，并注意施工地点的洁净，抹面层应一次到底。#p#分页标题#e# #