silicide什么意思_silicide的发音_silicide的用法_怎么记_翻译

silicide，发音：[?s?l?sa?d]，意思是“硅化物”。

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词源：源自silicon（硅）和英语词尾ide（化合物）。 #

记忆方法：silic（硅） + ide（化） → 硅化物。 #

中文翻译：硅化物。 #

以下是一些silicide的用法示例和音标： #

1. Silicon dioxide is commonly known as silica. Silicon dioxide (SiO2) is commonly known as silica and is a type of silicide. [英][?s?l??sa?d???k] [美][?s?l??sa?do??k]

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二氧化硅通常被称为硅石。二氧化硅（SiO2）通常被称为硅石，是一种硅化物。 #

2. The silicon in silicon chips is used to form silicide layers, which are used to reduce the sheet resistance of the silicon. 芯片中的硅被用来形成硫化物层，这些层用于降低硅的片状电阻。 [英][?s?l?kwa?d] [美][?s?l??kwa?d]

硅芯片中的硅用来形成硫化物层，这些层用于降低硅的片状电阻。

希望以上信息对您有帮助。 #

silicide的意思是“硅化物”。发音：英 [?s?l??sa?d] 美 [?s?l??sa?d]。用法：在化学中，silicide是一种化合物，其中硅原子与金属原子形成硅化物。例如，硅锡酸盐是一种硅锡化物，其化学式为M2SiO4，其中M可以是金属离子或可溶性阳离子。 #

怎么记：可以结合其化学性质来记忆。

silicide的变化形式有：名词形式为silicide，形容词形式为silicidal，副词形式为silicidally。 #

记忆技巧如下： #

1. 硅化物(silicide)是硅(silicon)和金属(metal)反应的产物。

2. 硅锡酸盐(silicidate)是一种盐，可以用来处理金属(metal)。

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3. 在处理硅化物(silicide)时，要注意避免发生硅锡反应(silicidal reaction)，否则可能会产生有害物质。 #

以上内容仅供参考，建议通过阅读相关书籍、网络资料等方式进一步学习了解silicide。 #

silicide，意思是“硅化物；硅硫化物”，是一个化学名词。

发音：英 [?s?l?sa?d]；美 [?s?l?sa?d]。

用法：silicide通常用作名词，表示硅化物这一物质。

记忆技巧：silic（硅） + iod（化物） → 硅化物 #

常用短语： #

1.no silicide reaction 不发生硅化反应 #

2.silicide layer 硅化物层 #

例句： #

1.The silicon nitride layer is used as a protective coating for the silicon oxide layer and prevents silicide formation. 硅氮化硅层用作保护层，保护氧化硅层并防止硅化物的形成。 #

2.The silicon oxide layer is then etched to form vias and contacts, and a thin silicide layer is deposited to improve the conductivity of the metal lines. 然后对氧化硅层进行蚀刻以形成通孔和接触孔，并沉积较薄的硅化物层以改善金属导线的导电性。

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3.The silicon oxide layer is then etched to form vias and contacts, and a thin silicide layer is deposited on the exposed silicon regions to improve the conductivity of the metal lines. 然后对氧化硅层进行蚀刻以形成通孔和接触孔，并在暴露的硅区域上沉积较薄的硅化物层以改善金属导线的导电性。

4.The silicide layer is deposited using a low-temperature process that does not damage the underlying silicon oxide layer. 硅化物层是使用不会损坏底层氧化硅层的低温工艺沉积的。 #

5.The silicide layer is deposited on the silicon regions of the chip to improve the conductivity of the metal lines. 在芯片的硅区域上沉积硅化物层以改善金属导线的导电性。 #

6.The silicide layer is deposited on the silicon regions of the chip and then annealed to form a low-resistance silicide layer. 在芯片的硅区域上沉积硅化物层，然后进行退火处理以形成低电阻的硅化物层。#p#分页标题#e#

7.The silicide layer is deposited on the surface of the silicon substrate and then annealed to form a low-resistance silicide layer on the surface of the silicon substrate. 在硅基片的表面沉积硅化物层，然后进行退火处理，在硅基片的表面形成低电阻的硅化物层。

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以上就是关于silicide的一些信息，希望可以帮助到您。

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